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SEN特殊光源紫外線表面清洗的原理

日期：2025-04-10 23:18
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摘要：
   SEN特殊光源紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產生。是高能環保型清洗**方法。廣泛運用于LCD,PCB，點子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領域。

    紫外線清洗是是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除附著在材料表面的有機物質。經過廣清洗后的材料表面可以達到高清潔度。

    其主要原理為紫外線燈發出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數有機物的結合能量。由于大多數碳氫化合物對185nm波長的紫外線具有較強的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后，會產生臭氧和氧氣，臭氧對254nm波長具有很強的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強的氧化性，可以將碳氫化合鍵切斷，生成水，二氧化碳等易揮發氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。

    清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們日常所熟悉的濕式清洗有可以清洗掉較大范圍污染的優點。但是也會有清洗不掉的污染。同時由于清洗的溶劑會在被清洗物表面殘留，因此對于高精密世界來說也是個污染。

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