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    OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀

    日期：2024-10-16 07:25
    瀏覽次數(shù)：107
    摘要：OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀,OTSUKA大塚OPTM-A1,OTSUKA大塚OPTM-A2,OTSUKA大塚OPTM-A3顯微分光膜厚儀,

    OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀


    OTSUKA大塚主要銷售用于光學(xué)特性評(píng)價(jià)?檢查的裝置。其裝置用于在LED、 OLED、汽車前燈等的光源?照明產(chǎn)業(yè)以及液晶顯示器、有機(jī)EL顯示器等平板顯示產(chǎn)業(yè)以及其相 關(guān)材料的光學(xué)特性評(píng)價(jià)?檢查。歡迎新老客戶來(lái)電咨詢！

    OTSUKA大塚產(chǎn)品特點(diǎn)膜厚測(cè)量中必要的功能集中于頭部。通過(guò)顯微分光高精度測(cè)量絕i對(duì)反射率（多層膜厚、光學(xué)常數(shù)）。1點(diǎn)只需不到1秒的高速tact。實(shí)現(xiàn)了顯微下廣測(cè)量波長(zhǎng)范圍的光學(xué)系（紫外～近紅外）。OTSUKA大塚通過(guò)區(qū)域傳感器控制的**構(gòu)造。搭載可私人定制測(cè)量順序的強(qiáng)大功能。即便是沒(méi)有經(jīng)驗(yàn)的人也可輕松解析光學(xué)常數(shù)。各種私人定制對(duì)應(yīng)（固定平臺(tái)，OTSUKA大塚OPTM，有嵌入式測(cè)試頭式樣）。



    OTSUKA大塚頭部集成了薄膜厚度測(cè)量所需功能
    通過(guò)顯微光譜法測(cè)量高精度**反射率（多層膜厚度，光學(xué)常數(shù)）
    1點(diǎn)1秒高速測(cè)量
    OTSUKA大塚顯微分光下廣范圍的光學(xué)系統(tǒng)（紫外至近紅外）
    區(qū)域傳感器的**機(jī)制
    易于分析向?qū)В鯇W(xué)者也能夠進(jìn)行光學(xué)常數(shù)分析
    獨(dú)立測(cè)量頭對(duì)應(yīng)各種inline客制化需求
    支持各種自定義

    OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀


    		OTSUKA大塚OPTM-A1 OTSUKA大塚OPTM-A2 OTSUKA大塚OPTM-A3
    波長(zhǎng)范圍 230 ~ 800 nm 360 ~ 1100 nm 900 ~ 1600 nm
    膜厚范圍 1nm ~ 35μm 7nm ~ 49μm 16nm ~ 92μm
    測(cè)定時(shí)間 1秒 / 1點(diǎn)
    光斑大小 10μm (*小約5μm)
    感光元件 CCD InGaAs
    光源規(guī)格 氘燈+鹵素?zé)?  鹵素?zé)?/span>
    電源規(guī)格 AC100V±10V 750VA（自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格）
    尺寸 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分)
    重量 約 55kg（自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分）



    OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀測(cè)量項(xiàng)目：
    **反射率測(cè)量
    多層膜解析
    光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

    OTSUKA大塚OPTM-A1,OPTM-A2,OPTM-A3顯微分光膜厚儀測(cè)量示例：
    SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測(cè)量

    OTSUKA大塚半導(dǎo)體晶體管通過(guò)控制電流的導(dǎo)通狀態(tài)來(lái)發(fā)送信號(hào)，但是為了防止電流泄漏和另一個(gè)晶體管的電流流過(guò)任意路徑，有必要隔離晶體管，埋入絕緣膜。 SiO 2（二氧化硅）或SiN（氮化硅）可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜，而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜，或是作為通過(guò)CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 OTSUKA大塚為了絕緣膜的性能和**的工藝控制，有必要測(cè)量這些膜厚度。



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