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OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統
nanoSAQLA是由動態光散射法(DLS法)的粒子直徑測量(粒子徑0.6nm~10μm)裝置。
還搭載了各種各樣追求品質管理的需求的功能。
在稀薄~濃厚系為止在廣濃度范圍內實現了多檢體測量對應的新光學系,用拉布必須的輕量·小型化,標準1分的高速測量。
另外,不受非浸染型的調諧器的影響,沒有自動取景器的“5檢體連續測量”的標準裝備了新產品。
OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLA
特長:
1臺簡單地5檢體連續測量
從稀薄到濃厚的關系
標準測量時間1分的高速測量
搭載簡單測量功能(一個點擊可以開始測量)
非浸泡型的單元格塊內沒有分注的轉換器
搭載溫度凹陷功能
- 粒子徑 0.6nm~10μm
- 濃度範囲 0.00001~40%
- 溫度範囲 0~90℃*
型式 | 多検體ナノ粒子徑測定システム |
測定原理 | 動的光散亂法 |
光源 | 高出力半導體レーザー *1 |
検出器 | 高感度APD |
連続測定 | 5検體 |
測定範囲 | 0.6nm ~ 10μm |
対応濃度 | 0.00001 ~ 40% *2 |
溫度 | 0 ~ 90℃ (溫度グラジエント機能あり) *3 |
規格 |
ISO 22412:2017 準拠 JIS Z 8828:2013 準拠 JIS Z 8826:2005 準拠 |
サイズ | W240 X D480 X H375 mm |
重量 | 約18 kg |
ソフトウェア | 平均粒子徑解析 (キュムラント法解析) |
粒度分布解析 (Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法) |
|
粒度分布重ね書き | |
逆相関関數?殘差プロット | |
粒子徑モニター | |
粒子徑表示範囲 (0.1 ~ 106 nm) | |
分子量計算機能 |
*1 本裝置はレーザーに関する**基準 (JIS C6802)のクラス1に區分される製品です。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、タウロコール酸:~40%
*3 標準ガラスセルでのバッチ測定の場合。
ディスポセルや連続測定時は 15 ~ 40℃ (溫度グラジエント非対応)
測定例
プリンタ用インクの粒度分布
ポリスチレンラテックス120nm(0.00001%)
タウロコール酸(40%)の粒度分布
聯系人:15902189399