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產品詳情
  • 產品名稱:OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLA

  • 產品型號:nanoSAQLA
  • 產品廠商:OTSUKA大塚電子
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簡單介紹:
nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLA
詳情介紹:
nanoSAQLA

   OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統

nanoSAQLA是由動態光散射法(DLS法)的粒子直徑測量(粒子徑0.6nm~10μm)裝置。

還搭載了各種各樣追求品質管理的需求的功能。

在稀薄~濃厚系為止在廣濃度范圍內實現了多檢體測量對應的新光學系,用拉布必須的輕量·小型化,標準1分的高速測量。

另外,不受非浸染型的調諧器的影響,沒有自動取景器的“5檢體連續測量”的標準裝備了新產品。

OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統nanoSAQLA


特長:

1臺簡單地5檢體連續測量

從稀薄到濃厚的關系

標準測量時間1分的高速測量

搭載簡單測量功能(一個點擊可以開始測量)

非浸泡型的單元格塊內沒有分注的轉換器

搭載溫度凹陷功能

測定範囲(理論値)
  • 粒子徑 0.6nm~10μm
  • 濃度範囲 0.00001~40%
  • 溫度範囲 0~90℃*

仕 様
 型式  多検體ナノ粒子徑測定システム
 測定原理  動的光散亂法
 光源  高出力半導體レーザー *1
 検出器  高感度APD
 連続測定  5検體
 測定範囲  0.6nm ~ 10μm
 対応濃度  0.00001 ~ 40% *2
 溫度  0 ~ 90℃ (溫度グラジエント機能あり) *3
 規格  ISO 22412:2017 準拠
 JIS Z 8828:2013 準拠
 JIS Z 8826:2005 準拠
 サイズ  W240 X D480 X H375 mm
 重量  約18 kg
 ソフトウェア  平均粒子徑解析 (キュムラント法解析)
 粒度分布解析
 (Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法)
 粒度分布重ね書き
 逆相関関數?殘差プロット
 粒子徑モニター
 粒子徑表示範囲 (0.1 ~ 106 nm)
 分子量計算機能

*1 本裝置はレーザーに関する**基準 (JIS C6802)のクラス1に區分される製品です。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、タウロコール酸:~40%
*3 標準ガラスセルでのバッチ測定の場合。
ディスポセルや連続測定時は 15 ~ 40℃ (溫度グラジエント非対応)

測定例

濃厚溶液を4色連続測定

プリンタ用インクの粒度分布
プリンタ用インクの粒度分布

 

希薄から濃厚系に対応

ポリスチレンラテックス120nm(0.00001%)
ポリスチレンラテックス120nm(0.00001%)

タウロコール酸(40%)の粒度分布タウロコール酸(40%)の粒度分布

聯系人:15902189399


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