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產品詳情

  • 產品名稱：OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000

  • 產品型號：FPAR-1000
  • 產品廠商：OTSUKA大塚電子
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簡單介紹：
FPAR-1000 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統 從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量 *適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
詳情介紹：

OTSUKA大冢- 光纖光學動態光散射光度計FDLS-3000
   OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統

從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區域中的粒子直徑測量
                                            *適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態。
特長：
OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統FPAR-1000
從稀薄的溶液到濃厚溶液，可以測量在廣泛的濃度范圍內的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。

在研究·質量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。

根據新開發的測量程序，對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。

將樣本溫調、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內置的A3尺寸的緊湊設計。


測定項目
粒子徑
3 nm ～ 5000nm
1 nm ～ 5000nm （高感度仕様）
キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑（D50）（高感度仕様）
分布解析
CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法

 

対応濃度範囲
（標準ラテックス
204nm の場合）
0.001 ～ 10 %
濃厚系プローブ（標準）
0.01 ～ 10 %
希薄系プローブ（オプション）
0.001 ～ 0.01 %
応用分野
  • 色材工業における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。
  • セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果
  • 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理
  • 高分子?化學工業におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理
  • 醫薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理
  • 光觸媒（酸化チタン）粒子の分散狀態管理

仕　様
光源 半導體レーザー
検出器 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式）
サンプル溫調範囲 10 ～ 70℃
溫調方式 電子式冷卻素子、ヒーター
プローブ洗浄方式 超音波洗浄
電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA
寸法（WDH） 320（W)×507（D)×284（H)
重量 約 22 kg


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