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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000AS

  • 產(chǎn)品型號：FPAR-1000AS
  • 產(chǎn)品廠商：OTSUKA大塚電子
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
FPAR-1000AS OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑 FPAR和自動取景器的組合中，關于50檢體的試料，可以進行粒子直徑的自動測量。 樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進行測量。 OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-100
詳情介紹：
FPAR-1000AS

   OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑

FPAR和自動取景器的組合中，關于50檢體的試料，可以進行粒子直徑的自動測量。
樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進行測量。

特長：

通過使用自動取款機，可以自動連續(xù)測量試料50個。

從稀薄的溶液到濃厚溶液，可以測量在廣泛的濃度范圍內(nèi)的高速、高精度的粒子徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。

在研究·質量管理的廣泛用途上使用微粒子特有的分散、凝集過程的功能等。

根據(jù)新開發(fā)的測量程序，對應于濃厚溶液中高精度的粒子直徑測量。

將樣本溫調(diào)、超聲波洗凈等所有必要的功能全部內(nèi)置的A3尺寸的緊湊設計。


測定項目
粒子徑
3 nm ～ 5000nm
1 nm ～ 5000nm （高感度仕様）
キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑（D50）（高感度仕様）
分布解析
CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法

 

対応濃度範囲
（標準ラテックス
204nm の場合）
0.001 ～ 10 %
濃厚系プローブ（標準）
0.01 ～ 10 %
希薄系プローブ（オプション）
0.001 ～ 0.01 %



應用領域

色材工業(yè)中的顏料?墨水的分散?凝集控制·粒子徑管理。

陶瓷拉拉力的分散?凝集控制、分散劑效果

半導體領域的研磨粒子的粒子直徑管理

高分子·化學工業(yè)中的艾瑪約翰、拉特克斯的分散凝集控制、粒子直徑管理

醫(yī)藥品?食品乙醇的分散?凝集控制、利波索等粒子直徑管理

光催化（氧化鈦）粒子的分散狀態(tài)管理


FPAR-1000仕様
光源 半導體レーザー
検出器 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式）
サンプル溫調(diào)範囲 10 ～ 70℃
溫調(diào)方式 電子式冷卻素子、ヒーター
プローブ洗浄方式 超音波洗浄
電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA
寸法（WDH） 320（W)×507（D)×284（H)
重量 約 22 kg

 

 

オートサンプラー仕様

サンプルバイアル 円筒形セル（蓋つき）
サンプル容量 1 ～ 2.5 ml
サンプルバイアル數(shù) 一度に 50本 まで搭載可能
溫調(diào) ヒータ?ペルチェ方式
サンプル溫調(diào)範囲 15～40℃
測定濃度範囲 0.001% ～ 10% （FPAR-1000と接続時）
OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000AS


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