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膜厚量測儀 FE-300
產品信息
特 長
薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析
高性能的低價光學薄膜量測儀
藉由**反射率光譜分析膜厚
完整繼承FE-3000**機種90%的強大功能
無復雜設定,操作簡單,短時間內即可上手
線性*小平方法解析光學常數(n:折射率、k:消光系數)
測量項目
-
**反射率測量
-
膜厚解析(10層)
-
光學常數解析(n:折射率、k:消光系數)
產品規格
樣品尺寸 |
*大8寸晶圓(厚度5mm) |
|||
---|---|---|---|---|
測量時間 |
0.1s ~ 10s以內 |
|||
量測口徑 |
約φ3mm |
|||
通訊界面 |
USB |
|||
尺寸重量 |
280(W)× 570(D)×350(H)mm,約24kg |
|||
軟體功能 |
||||
標準功能 |
波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析 |
|||
選配功能 |
材料分析軟件、薄膜模型解析、標準片解析 |
※1 請于本公公司聯系聯系我們
※2 對比VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si),范圍值同保證書所記載
※3 測量VLSI標準樣品(100nm SiO2/Si)同一點位時之重復再現性。(擴充系數2.1)
應用范圍
半導體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
光學薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
測量范例
-
PET基板上的DLC膜
-
Si基板上的SiNx