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  • 產品名稱：近接曝光裝置MA-5501ML 日本DNK蘇州銷售

  • 產品型號： MA-5501ML
  • 產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：
主要特長 能夠進行節拍時間約20秒(標準規格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統,能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴格控制處理部位溫度環境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調控系統。 可選擇配置基板臺溫度控制系統及掩膜冷卻系統，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(選購項) 能夠裝載存放5張掩膜的掩膜存放庫
詳情介紹：

主要規格

  MA-5501ML MA-5701ML MA-5111ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm 730 x 920mm
對位 非接觸預對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW or 5kW 超高壓水銀燈：10kW 超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機) 		W7450 x D5000 x H3600mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機)
本體重量 1500kg 1900kg 2000kg
光源重量 500kg 1100kg 3500kg
無塵機房重量 250kg 300kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調節、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽

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