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  • 產品名稱：描畫圖形裝置日本DNK蘇州銷售MX-1201E

  • 產品型號： MX-1201E
  • 產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：
利用獨自的高速描畫「Point Array方式」技術直接描畫圖形的裝置。 主要特長 能夠用于研究開發、試作、小批量生產等的直描曝光。 能夠對應半導體、電子零件、優異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。 由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發成本和縮短市場供應時間。 此外,還可以根據客戶需求,提供相應的裝置構造。
詳情介紹：

主要規格

型式 MX-1201 MX-1201E MX-1205
*小線幅 (※1) [μm] 5 3 2 1
數據分辨率 [μm] 0.488 0.25 0.1 0.05
*大基板尺寸 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
有效曝光范圍 [mm] 200 x 200 200 x 200 100 x 100
激光主波長 [nm] 405 375 405 + 375 405 375 375
曝光掃描速度 [mm/s] 43.94 22.5 9 4.5
節拍時間 [s,min] 180 [s] 320 [s] 16 [min] 27 [min]
*大曝光量 [mJ/c㎡] 245 70 245 + 70 460 135 50 100

※1　因光刻膠和顯影條件而異。

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