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產品詳情

  • 產品名稱：日本DNK科研曝光機MA-1400光刻機

  • 產品型號： MA-1400
  • 產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：
產品信息實驗?研究用曝光裝置 簡練設計的手動式整面單次曝光裝置。 主要特長 對應玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產。 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。 對應*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等
詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 

光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規格也可對應

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規格

MA-1200、MA-1400

  MA-1200 MA-1400
基板尺寸 追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 追大 400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
本體重量 400kg 400kg(包含無塵機房)
光源重量 － 250kg
選購項 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽



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