布基纳法索/澳洲时间/欧冠赛程16强赛程表/西甲历届积分榜 - 2024年土伦杯赛事规则

產品中心
產品詳情

  • 產品名稱：SAMCO ALD 設備 AL-1 原子層沉積設備

  • 產品型號：
  • 產品廠商：SAMCO薩姆肯
  • 產品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產品文檔：
你添加了1件商品 查看購物車
簡單介紹：
通過提供具有數十毫秒級良好沉積效率 的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。
詳情介紹：

概述

AL-1通過交替向反應室提供有機金屬原料和氧化劑，僅利用表面反應進行成膜，實現了高薄膜厚度控制和良好的階梯涂層性能。 薄膜厚度可按原子層順序控制。 此外，高縱橫比的孔內壁具有良好的覆蓋性，可以均勻地沉積在薄膜厚度上。 在有機金屬材料中使用TMA和使用H_O作為反應劑的氧化鋁（AlOx）膜，在350°C的沉積溫度下具有7.5MV/cm的高擊穿強度，可作為下一代功率器件的柵極高壓膜應用。 ? 4 英寸晶圓 × 可同時形成三個晶圓。

特點

通過提供具有數十毫秒級良好沉積效率
的脈沖，減少了原材料的損耗，提高了沉積效率。

與清潔真空
反應室內壁緊密接觸的內壁加熱器可抑制反應室內的溫度不均勻性，從而獲得清潔的真空。

無針孔的成膜
設計使多個原料氣體不混合在反應室內，從而防止顆粒的產生，形成無針孔的膜。

應用示例

下一代功率器件的柵極氧化膜和鈍化膜

在三維結構（如 MEMS）上均勻沉積

激光諧振器端面的沉積

碳納米管保護膜

產品留言
標題
聯系人
聯系電話
內容
驗證碼
點擊換一張
注：1.可以使用快捷鍵Alt+S或Ctrl+Enter發送信息!
2.如有必要,請您留下您的詳細聯系方式!

蘇公網安備 32050502000409號