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  • 產品名稱:SAMCO 等離子CVD設備 PD-220NL

  • 產品型號:
  • 產品廠商:SAMCO薩姆肯
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簡單介紹:
雖然設計緊湊,可 沉積到 ±8 英寸晶圓上,但樣品為 ±3 英寸晶圓,可同時沉積 5 個晶圓,4 英寸晶圓可同時形成 3 個薄膜,1 個 ±8 英寸晶圓可以沉積。
詳情介紹:

概述

PD-220NL 是一種負載鎖定設備,基于 PD-220 系列等離子 CVD 設備的經驗而開發,該設備具有豐富的交付記錄。 該裝置設計緊湊,但基板有效直徑為±220mm,通過托盤輸送,可同時形成多個小直徑晶圓。 我們旨在形成各種硅薄膜(SiO+、SiN 等),可處理從尖 端研究到大規模生產的各種應用。

特點

雖然設計緊湊,可
沉積到 ±8 英寸晶圓上,但樣品為 ±3 英寸晶圓,可同時沉積 5 個晶圓,4 英寸晶圓可同時形成 3 個薄膜,1 個 ±8 英寸晶圓可以沉積。

配備負載
鎖定室,可實現穩定的過程。

應用示例

可以形成
氮化硅膜、氧化硅膜和非晶硅膜,形成各種硅基薄膜。

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