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  • 產品名稱：SAMCO ICP蝕刻裝置 RIE-802iPC

  • 產品型號：
  • 產品廠商：SAMCO薩姆肯
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簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 該裝置具有兩個反應室，提高了區域生產率，是一種具有出色工藝再現性和穩定性的正宗生產設備。
詳情介紹：

概述

高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 該裝置具有兩個反應室，提高了區域生產率，是一種具有出色工藝再現性和穩定性的正宗生產設備。

特點

新型ICP源「HSTC?： Hyper Symmetrical Tornado Coil」

高射頻功率（2 kW 或更高）可高效、穩定地應用，以實現良好的均勻性。

大流量排氣系統

通過采用與反應室直接相連的排氣系統，實現了從小流量、低壓區域到大流量、高壓范圍的各種工藝窗口。

下部電極升降機構

優化晶圓和等離子體之間的距離，確保良好的平面內均勻性。

易于維護的設計

TMP（渦輪分子泵）和高頻電源單元化，便于更換。

應用示例

? 高精度加工化合物半導體，如 GaN、GaAs 和 InP

?高速加工SiC、SiO

? 蝕刻難蝕刻材料，如鐵電體（PZT、BST、SBT、BT）和電極材料（Pt、Au、Ru、Al）

化合物半導體晶圓的等離子切割，薄型化

選項

難蝕刻材料用特殊電極機構

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