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  • 產品名稱：SAMCO ICP 蝕刻設備 RIE-100HiC

  • 產品型號：
  • 產品廠商：SAMCO薩姆肯
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簡單介紹：
高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 無負載鎖室的設備配置可實現低成本和節省空間，同時配備 2 個盒式磁帶。
詳情介紹：

概述

高密度等離子蝕刻裝置，采用電感耦合等離子體（工業塑料廣場）作為放電形式。 無負載鎖室的設備配置可實現低成本和節省空間，同時配備 2 個盒式磁帶。

特點

? 4“ 平面內均勻性：± 1% 或更少，蝕刻速率：1μm/min 或更高

500 張連續加工的批次間穩定性：±0.6%

? 追求節省空間和低成本的大氣輸送平臺

真空夾頭式輸送手在大氣中高速輸送

應用示例

SiO+ 接觸孔加工

等離子去污

光刻膠灰化

表面改性

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