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檢測(cè)系統(tǒng)
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光照射裝置
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點(diǎn)光源曝光
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變壓型電源供應(yīng)器
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超高壓短弧汞燈
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UV光洗凈
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UV曝光裝置
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uv固化裝置
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紫外可見光光度計(jì)
- 可在紫外可見(300~800nm)波長范圍內(nèi)測(cè)量橢圓參數(shù)
- 納米級(jí)多層薄膜的厚度分析
- 使用 400ch 或更多多通道光譜快速測(cè)量橢圓光譜
- 通過可變反射角度測(cè)量支持薄膜的詳細(xì)分析
- 通過數(shù)據(jù)庫化光學(xué)常數(shù)和添加配方注冊(cè)功能,提高可操作性
- 橢圓參數(shù)(tan= 、cosΔ)測(cè)量
- 光學(xué)常數(shù) ( n : 折射率 , k : 消光系數(shù) ) 分析
- 厚度分析
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半導(dǎo)體晶圓
柵極氧化薄膜、氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
電阻的光學(xué)常數(shù)(波長色散) -
化合物半導(dǎo)體
鋁xGa(1-x)As 多層膜,非晶硅 -
FPD
對(duì)準(zhǔn)膜 -
各種新材料
DLC(Diamond Like Carbon)、超導(dǎo)薄膜、磁頭薄膜 -
光學(xué)薄膜
TiO2,SiO2,防反射膜 -
光刻領(lǐng)域
- g 線 (436nm)、h 線 (405nm) 、i 線 (365nm) 等各波長的 n,k 評(píng)價(jià)
*1 偏振器可驅(qū)動(dòng),緩速板可拆卸,對(duì)不敏感帶有效。
類型表達(dá)式
FE-5000S
FE-5000
樣本大小
高達(dá) 100x100mm
*大 200x200mm
測(cè)量方法
旋轉(zhuǎn)分析儀*1
測(cè)量膜厚范圍(nd)
0.1nm~1μm
入射(反射)角度范圍
45~90°
45~90°
入射(反射)角度驅(qū)動(dòng)方式
自動(dòng)正弦桿驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)
入射點(diǎn)直徑*2
φ2.0
φ1.2sup*3
tanψ測(cè)量精度
±0.01 或更少
cosΔ 測(cè)量精度
±0.01 或更少
薄膜厚度的重復(fù)再現(xiàn)性
0.01% 或更少*4
波長范圍*5
300~800nm
300~800nm
測(cè)量光源
高穩(wěn)定性 Xenon 燈*6
舞臺(tái)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)
手動(dòng)
手動(dòng)/自動(dòng)
加載器支持
不可以
是
尺寸、重量
650(W)×400(D)×593(H)mm
50kg
1300(W)×890(D)×1750(H)mm
350kg*7
*2 因短軸和角度而異。
*3 微點(diǎn)對(duì)應(yīng)(可選)
*4 使用 VLSI 標(biāo)準(zhǔn) SiO2 膜 (100nm) 時(shí)的值。
*5 選擇自動(dòng)階段時(shí)的值。
2.如有必要,請(qǐng)您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!