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UV曝光裝置
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紫外可見光光度計
應(yīng)用
■ 半導(dǎo)體生產(chǎn)
■ 電子槍排氣、電離源排氣
■ 平板顯示器制造
■ 表面處理、表面改性
■ 各種電子元件的制造
■ 分析、檢測設(shè)備
■ 燈具生產(chǎn)、光學(xué)元件生產(chǎn)
■ 加速裝置、輻射設(shè)施、核聚變研究
■ 熱處理
■ 研究與開發(fā)
*如果排出腐蝕性氣體,請選擇我們的化學(xué)用TG-M或TG系列。
入口法蘭 |
VG200 ISO-B200 CF200 |
|
體積流量 | N2(升/秒) | 1400 |
N2 (帶防護(hù)屏) (升/秒) |
1300 | |
H2(升/秒) | 750 | |
*大壓縮 比 |
N2 | 1×108 |
H2 | 4.3×103 | |
基礎(chǔ)壓力 |
(帕) (托爾) |
<1×10-6 <7.5×10-9 |
*大吞吐量※1 | (SCCM) | 450 |
啟動時間 | (分鐘) | 5.5-7 |
關(guān)機(jī)時間 | (分鐘) | 15-18 |
*大背襯壓力 | (帕/托爾) | 330/2.5 |
推薦的后級 真空泵 |
(升/分鐘) | ≧250 |
位置 | 任何方向 | |
重量 | VG?ISO-B/CF(KG) | 29/30 |
控制器 | TC1103 |
*1 : 使用500L/min的前級真空泵時。
[使用環(huán)境溫度]
確保達(dá)到極限壓力的環(huán)境溫度范圍為 10-23°C。風(fēng)冷型允許環(huán)境溫度為10-32°C,水冷型允許環(huán)境溫度為10-40°C。確保極限壓力的冷卻水的*高溫度為30°C,冷卻水的允許溫度范圍為10-35°C。
聯(lián)系人:李先生 13402684488(微信同號)
羅茨真空泵、油封旋轉(zhuǎn)真空泵、液環(huán)真空泵、油擴(kuò)散泵、噴射器、干式真空泵、真空系統(tǒng)、真空設(shè)備
常熟代理Osakavacuum大阪真空渦輪分子泵TG1400F
昆山代理Osakavacuum大阪真空渦輪分子泵TG1400F
南京代理Osakavacuum大阪真空渦輪分子泵TG1400F
上海代理Osakavacuum大阪真空渦輪分子泵TG1400F
2.如有必要,請您留下您的詳細(xì)聯(lián)系方式!