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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
該設(shè)備是一個小型研究設(shè)備，可以壓印 20mm × 20mm 的樣品。 到目前為止，我們制造的壓印設(shè)備有一個相對較大的設(shè)備，它未能改善研究成本負(fù)擔(dān)和安裝位置等問題，這是世界上印跡設(shè)備所關(guān)注的問題。
因此，我們制造了一種設(shè)備，可以盡可能小地研究實驗室空間，并在各種條件下進(jìn)行研究。 納米壓印設(shè)備主要是為大學(xué)的研究和實驗而開發(fā)的，我們制造了這種尺寸的納米壓印設(shè)備，以消除引入成本高的印象，同時考慮到設(shè)備的尺寸和可用性。 壓印方法采用光固化方法，允許記錄圖形和表數(shù)據(jù)。 為什么不用新技術(shù)進(jìn)行田野實驗，并隨意進(jìn)行原型和生產(chǎn)呢？
詳情介紹：
| 印記方法 | 光固化方法 |
|---|---|
| 紫外線設(shè)備性能 |
光量 400mW/cm2 波長 高達(dá) 365mm |
| 壓機剝離載荷 | 0.1～100N |
| 樣品尺寸 | 20mm×20mm |
| 壓機剝離速度 | 1～1000μm/sec |
| 電源 | AC100V |
| 樣品基板 | Si晶圓/玻璃基板 |
| 設(shè)備重量 | 約25公斤 |
無錫代理日本MITSUI三井電氣納米壓印裝置TM-03
昆山代理日本MITSUI三井電氣納米壓印裝置TM-03
南京代理日本MITSUI三井電氣納米壓印裝置TM-03
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聯(lián)系人：李先生 13402684488（微信同號）
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