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  • 產品名稱：AMAYA天谷制作所小型生產和開發的常壓 CVD 設備 D501

  • 產品型號：
  • 產品廠商：AMAYA天谷制作所
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簡單介紹：
? 批量 常壓 CVD 設備，用于在大型托盤中裝載多個晶圓 氣相沉積設備
詳情介紹：
特點

這是一種批量式氣相沉積設備
常壓CVD裝置，在大型托盤中裝載多個晶圓，托盤在分散頭下往復沉積。

可對應異形基板。

設備尺寸緊湊，占用空間小。

性能
薄膜厚度均勻性 取決于薄膜厚度和薄膜類型
支持的晶圓尺寸 以可加熱區域為準
氣體種類 SiH4, O2, PH3, B2H6, N2
(TEOS, TEB, TMOP, O3， TMA 可選）
沉積溫度 350～450℃ (200～350℃)
生產力 ―
主要規格

設備尺寸 1200mm(W) x 2480mm(D) x 1940mm(H)
加熱機構 電阻加熱
卸載 手動方法
分散頭
（氣體噴嘴） 		A63 頭
蘇州代理AMAYA天谷制作所小型生產和開發的常壓 CVD 設備 D501

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