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產品詳情
簡單介紹:
總代日本HORIBA崛場納米顆粒分析儀粒度儀SZ-100-S2 納米技術的研發是一個持續不斷的過程,這是為了能夠從原子和分子水平上控制物質的尺寸,從而獲得性能更好的材料與產品。組件的小型化——即納米級控制可以有效實現更快的測量速度、更好的設備性能以及更低的設備運行能耗。納米技術在日常生活中的諸如食品、化妝品和生命科學等很多領域發揮著關鍵作用。
詳情介紹:
總代日本HORIBA崛場納米顆粒分析儀粒度儀SZ-100-S2 國內各區域供應
總代日本HORIBA崛場納米顆粒分析儀粒度儀SZ-100-S2
粒徑測量范圍0.3 nm ~ 10 μm
SZ-100V2 系列采用動態光散射 (DLS) 原理測量顆粒粒徑大小及分布,實現了超寬濃度范圍的樣品測量,該系列可準確測量低至ppm 級低濃度、高至百分之幾十的高濃度樣品。可使用市售的樣品池,也可實現對小體積樣品的測量。
Zeta 電位測量范圍– 500 ~ + 500 mV
使用 HORIBA Zeta電位樣品池測量Zeta 電位值只需樣品100 μL,通過Zeta電位可預測和控制樣品的分散穩定性。Zeta 電位值越高,則意味著分散體系越穩定,這對于產品配方的研究工作具有重大的意義。
分子量測量范圍1 × 10 3 ~ 2 × 10 7 Da
通過測量不同濃度下的靜態光散射強度并通過德拜記點法計算樣品的**分子量 (Mw) 和**維里系數 (A2 )。
SZ-100V2 系列具有良好的復雜信息處理能力和學習能力,可快速確定納米顆粒的特性!
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SZ-100V2 系列具有雙光路設計,既可以測量高濃度的樣品,如漿體和染料;同時也可以用于測量低濃度樣品,如蛋白質、聚合物等。
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使用單臺設備即可表征納米顆粒的三大參數——粒徑、Zeta 電位和分子量
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HORIBA研發的Zeta 電位樣品池可防止樣品對其造成污染。樣品池容量(*低容量100 μL)小適用于稀釋樣品的分析。
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HORIBA研發的Zeta 電位樣品池的電極由碳材料制成,該材料不會受到鹽溶液等高鹽樣品的腐蝕。
SZ-100-S2 測量規格
型號 | SZ-100-S2(**粒徑和分子量測量) |
---|---|
測量原理 |
粒度測量:動態光散射 分子量測量:德拜記點法(靜態散射光強度) |
測量范圍 |
粒徑:0.3 nm 至 10 μm 分子量:1000 至 2 × 10 7 Da(德拜記點) 540 至 2× 10 7 Da(MHS 方程)*1 |
*大樣品濃度 |
40%*2 |
粒度測量精度 |
以100 nm的聚苯乙烯乳膠球體為例,其測量精度為 ±2% (不包括標準顆粒本身的變化) |
測量角度 |
90°和173°(自動或手動選擇) |
樣品池 | 比色皿 |
測量時間 | 常規條件下約 2分鐘(從測量開始到顯示粒度測量結果) |
所需樣品量 | 12 μL *3至 1000 μL(因比色皿材料而異) |
分散劑 | 水、乙醇、有機溶劑 |
尺寸(毫米)
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