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  • 產品名稱:總代GD-Profiler 2?輝光放電光譜儀HORIBA堀場

  • 產品型號: GD-Profiler 2?
  • 產品廠商:HORIBA堀場
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簡單介紹:
總代GD-Profiler 2?輝光放電光譜儀HORIBA堀場GD-Profiler 2? 可以快速、同時分析所有感興趣的元素,包括氣體元素N、O、H和Cl,是薄膜和厚膜表征和工藝研究的理想工具。GD-Profiler 2? 配備的射頻源可在脈沖模式下對易碎樣品進行測試,廣泛應用于高校以及工業研究實驗室,其應用范圍有腐蝕研究、PVD 涂層工藝控制、PV 薄膜開發以及LED 質量控制等。
詳情介紹:

總代GD-Profiler 2?輝光放電光譜儀HORIBA堀場

用輝光放電光譜儀去發現一個嶄新的信息世界

GD-Profiler 2? 可以快速、同時分析所有感興趣的元素,包括氣體元素N、O、H和Cl,是薄膜和厚膜表征和工藝研究的理想工具。

GD-Profiler 2? 配備的射頻源可在脈沖模式下對易碎樣品進行測試,廣泛應用于高校以及工業研究實驗室,其應用范圍有腐蝕研究、PVD 涂層工藝控制、PV 薄膜開發以及LED 質量控制等。

  • 射頻發生器是 E 類標準,對穩定性和濺射坑形狀都進行了優化以滿足實時表面分析。

  • 射頻源可以分析傳統和非傳統鍍層和材料,對于易碎樣品,還可以使用脈沖式同步采集優化測試。

  • 從 110nm到 800nm 同步全光譜覆蓋,包括分析 H、O、C、N 和 Cl 的深紫外通道。

  • HORIBA 研發的離子刻蝕型全息光柵具有高的光通量和光譜分辨率,光學效率和靈敏度都表現優良。

  • HDD 探測器兼具檢測速度和靈敏度。

  • 內置的微分干涉儀DIP可實時測量濺射坑深度和剝蝕速率。

  • 寬敞簡潔的大樣品倉易于裝卸樣品,操作簡單。

  • QUANTUM? 軟件配置了Tabler 報告編寫工具。

  • **激光中心定位裝置(**號:Fr0107986/國際**種類:G01N 21/67)可定位樣品測試位置。

 HORIBA 的輝光放電光譜儀可以選配單色儀,實現n+1元素通道的同時也提高了設備的靈活性。

  • 輝光源結合超快速、高分辨的同步光學器件,可對導體、非導體和復合材料進行快速元素深度剖析。

  • 適用于薄膜和厚膜——從納米到數百微米,且具有納米級深度分辨率。

  • 典型應用領域包括光伏、冶金、LED 制造、腐蝕研究、有機和微電子、材料研發、沉積工藝優化、PVD、CVD、等離子涂層、汽車、鋰電池等。

  • 不需要超高真空

  • 使用高動態探測器可以測量所有感興趣的元素(包括 H、D、O、Li、Na、C、N 等)。

  • 可選附件單色儀配備的也是高動態探測器,可在image模式下做全譜掃描,極大的增加了設備的靈活性。

  • 脈沖式射頻源,可選擇在常規射頻模式和脈沖式射頻模式下工作,且可全自動匹配。

  • 輝光源采用差速雙泵真空系統,可為SEM制備樣品。

  • 內置等離子清洗功能。

  • 超快速濺射模式UFS可快速分析聚合物和有機材料。

  • 內置的微分干涉儀DIP,可直接在線測定深度。

  • 用于異形樣品測試的各種銅陽極和附件。

  • Windows 10 軟件 – 為遠程安裝提供多個副本



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