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日本MIKASA涂布機株式會社
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  • 日本MIKASA|涂布機、勻膠機、旋轉涂膜儀|中國代理店塔瑪薩崎電子(蘇州)有限公司 光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時,若采用適當的有選擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,
    發布時間:2023-10-26 17:10 點擊次數:279 次
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    發布時間:2023-05-30 08:56 點擊次數:298 次
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    發布時間:2023-04-19 15:16 點擊次數:102 次
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    發布時間:2023-04-19 15:03 點擊次數:131 次
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    發布時間:2023-04-19 14:31 點擊次數:163 次
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    發布時間:2023-02-10 16:36 點擊次數:245 次

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